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電子級氫氟酸究竟有多重要
- 2020-05-08-

  根據純度與用途分類,氫氟酸分為工業和電子級兩種:工業級的無水HF可用于氟烷烴、氟化鹽、含氟精化工等化學品的制備,其精餾、超純水吸收后純化,并經 0.2μm 以下超濾等工序后,可制得高純且超凈的電子級氫氟酸,技術難度較大。主要作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業,根據純度分為 4 個級別,與傳統工業級氫氟酸行業受限情況不同,近年來電子級HF行業發展受政策允許與鼓勵,逆勢而上、不斷加碼產能。

  電子級氫氟酸主要用于去除氧化物,被運用于集成電路、太陽能光伏和液晶顯示屏等領域中進行芯片、硅片、玻璃基板的清洗和蝕刻,以及用于分析試劑和制備高純含氟化學品等。

  高純HF價格為工業級氫氟酸的 2-3 倍,含量也是工業級氫氟酸的一半,另外一半是高純水。

  HF是集成電路行業中的關鍵輔助材料之一,其純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能及可靠性都有著重要的影響。

  在半導體制程中有 50 多個環節需要使用高純氫氟酸,約 70%用于清洗,30%用于蝕刻,半導體要求純度達99.999氫氟酸。

  世界電子級氫氟酸需求集中在亞太、歐洲和北美地區,近年來世界市場規模及消費量穩定上漲。目前高純半導體級氫氟酸的生產技術和供給主要被 Stella(產量 9 萬噸)、大金、森田化學(年產 2 萬噸)等日企所掌握。三家日企控制著高純半導體級(UPSS 及以上)氫氟酸產能的近 90%,具備很強的技術優勢