電子級氫氟酸對金屬和玻璃具有很強的腐蝕性，是一種重要的化學試劑。它具有清洗和蝕刻兩種功能，應用于半導體、太陽能電池板和液晶面板

　　在生產過程中。氫氟酸對微電子工業的安全起著重要的作用。在氫氟酸的生產、檢測、包裝、運輸等環節建立了嚴格的管理和控制體系，確認了氫氟酸的質量，保障了微電子產品生產過程的順利進行。

　　生產技術

　　電子級氫氟酸可通過蒸餾、亞沸蒸餾和氣體吸收制備。由于氫氟酸的強腐蝕性，蒸餾過程中常用鉑、金、銀等

　　由貴金屬或聚四氟乙烯制成。目前我國比較常用的工藝路線是蒸餾，大致如下：原料酸→化學處理→連續蒸餾→吸收塔→超凈過濾→成品包裝。

　　無水氫氟酸中的大部分雜質是氟化物

　　它的沸點很高，在蒸餾過程中可以較好地分離。三氟化砷的沸點比氫氟酸的沸點小，這使得砷的脫除比較困難。蒸餾分離成效不好。砷的預處理是氫氟酸生產的關鍵工序。

　　電子級氫氟酸生產中除砷方法主要有硫化物法、電解法、離子交換法和氧化法。目前，氧化法已得到較好的應用和發展。主要氧化過程為高錳酸鉀氧化和氟氣氧化，使氧化產物在塔釜中富集，在蒸餾過程中清理。高錳酸鉀氧化法可以將三氟化砷轉化為高沸點的五氟化砷，然后清理雜質，但容易摻雜其他雜質；氟化物氣體氧化技術還可以將三氟化砷轉化為高沸點的五氟化砷，從而清理雜質不引入其他雜質。因此，氟氧化法除砷率高，沒有污染。